精机事业

支持信息社会的发展

智能设备、电脑和大型LCD电视已成为我们当今日常生活中的必备品。这些电子产品的核心部件为集成电路芯片和平板显示器,由称为曝光系统的设备生产。尼康涵盖从开发、设计到制造、销售和售后服务的整个流程,以此推动信息社会的发展。

半导体装置事业

半导体曝光装置可缩小电路图形尺寸,并将其投射到晶片上。对于集成电路芯片生产起到关键作用的此类曝光系统具备低至纳米(十亿分之一米)的高精度,该系统也被公认为是迄今为止格外精密的设备。尼康开发和提供创新型半导体曝光系统,满足制造不断微型化和复杂性渐增的集成电路芯片的多变要求。

ArF液浸扫描式曝光机 NSR-S631E

这是一款为了满足7nm工艺节点量产而开发(可对应多重曝光技术),并采用了Streamline平台技术的ArF液浸式光刻机。该光刻机可达到2.3nm以下的设备间重合精度(MMO :Mix-and-Match Overlay) 和270片/每小时以上高吞吐量(96 Shot/ wafer)。这样的高精度和高生产性,可以对先进生产线的安定量产做出贡献。

FPD装置事业

FPD曝光装置可将电路图投射到LCD和OLED面板用玻璃基板表面。尼康设备应用于从采用独特的多镜头投影光学系统处理大型面板到供智能设备用的小型和中型面板生产的整个领域。截至2016年3月的财政年度,尼康通过向世界领先制造商提供多样化设备傲居全球市场提供众多此类设备的大供应商。

FPD扫描式曝光机 FX-68S

FX-68S支持使用第六代基板制造、高分辨率、中型和小型面板。该扫描方法不仅提高了产能,同时还可提供高分辨率(1.5μm)和高精度校准。

FPD扫描式曝光机 FX-101S

运用多镜头投影光学技术,FX-101S能够处理尺寸为3x3米左右的第十代玻璃基板。一张玻璃基板通过投影扫描可以生产6个或8个60英寸以上平板电视用的面板。这对生产高性能大屏幕电视所需面板的大规模生产而言是很理想的。