精机事业

截至 2024年3月31日

创建智能社会

集成电路芯片和高分辨率平板显示器是推动IoT和AI进步的关键。尼康从事这些部件的电路图曝光制造系统的研发和生产，助力智能社会的创建。

平板显示器的制造工艺以及FPD曝光设备

FPD曝光设备可将电路图投射到玻璃基板的表面，以控制每个像素。尼康提供多套系统广泛应用于从采用独特的多镜头系统的大型面板到采用智能设备的小型和中型面板生产的整个领域。通过不断的技术开发，在FPD曝光系统领域尼康拥有很高的市场占有率。

半导体光刻设备可缩小电路图形尺寸，并将其投射到晶片上。对于集成电路芯片生产起到关键作用的此类曝光系统具备低至纳米（十亿分之一米）的高精度，该系统也被公认为是迄今为止格外精密的设备。

此设备运用可提升解析度的独特照明系统和多镜头投影光学技术，为第10.5代玻璃基板的制造而优化。适用于高精度大屏幕面板的生产，对4K／8K分辨率电视，以及高精度平板液晶显示面板、有机EL面板的大规模生产作出了贡献。

最先端的高性能移动设备上使用的高精细OLED面板和液晶面板生产制造中最适合的曝光设备。
搭载由多镜头组成的投影光学系统，实现了高解析度，高精度的重合精度，高生产性。
与此同时，该设备采用了与现有机型相同的i线光源，从而在维持现有制造工艺的情况下实现高精细面板的量产。

采用了Streamlign Platform，专为5nm工艺制程量产而开发。搭载高性能对准站，提供了光刻机间重合精度（MMO）小于2.1nm，且产出达到每小时275片以上（96 shots）的高精度与高生产效率。促进了先进设备的稳定量产。

应对功率半导体、通信用半导体，MEMS等各种器件，发售与既有设备替换性高的缩小投影倍率5倍 i线步进式光刻机。该设备性价比优异，对晶圆材质的包容性强，能为各种半导体器件的高效率生产做出贡献。

充分运用了尼康在半导体曝光设备领域的独有技术的高性能对准站。高速且高精度的对曝光前的所有晶圆进行网格変形的绝对值测量。通过将校正值前馈至曝光设备，可在不降低产出的情况下大幅度提高重合精度，从而为提升客户产品的成品率以及设备投资效率做出贡献。